近期，中微公司董事长尹志尧表示，他在四十余年的从业经验里，经历过半导体产业的七起七落。尽管研究机构预测半导体未来一两年会持续增长，“但要有思想准备，万一这个市场掉下来，我们需要应对措施。这就是为什么我们不断开发新产品，不断地把鸡蛋放在不同的篮子里。”
尹志尧表示，“美国和日本的三大设备公司，都是先做刻蚀，做好了再做薄膜设备。薄膜设备完了以后，有胆量的就做湿法或者做检测设备，没有胆量的就留在刻蚀、薄膜设备。”他表示，在过去十三年，中微公司收入年均增长超过35%，“所以我现在有点胆量，一手去抓量检测设备，一手去抓湿法工艺。”
尹志尧谈到，“过去几十年的预测，常常把符号都搞错：今年夏天说明年夏天会增长，结果实际是降低的。所以现在虽然有预测（增长），但是我只相信百分之六七十。”
中微公司（688012.SH）2025年度业绩显示，公司全年实现营业总收入约123.85亿元，同比增长36.62%；实现归属于母公司所有者的净利润约21.11亿元，同比增长30.69%；实现归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润约15.50亿元，同比增长11.64%。
近期，中微公司宣布推出四款瞄准前沿工艺需求的新产品，包括新一代电感耦合ICP等离子体刻蚀设备Primo Angnova™、高选择性刻蚀机Primo Domingo™、Smart RF Match智能射频匹配器以及蓝绿光Micro LED量产MOCVD设备Preciomo Udx®，进一步丰富了公司在刻蚀设备、薄膜沉积设备及核心智能零部件领域的产品组合及系统化解决方案能力。
中微公司开发的CCP高能等离子体和ICP低能等离子体刻蚀两大类，包括20多种细分刻蚀设备已可以覆盖95%以上的几百种刻蚀应用。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国内和国际一线客户，可以覆盖从65纳米及更先进工艺的众多刻蚀应用。中微公司最近十年着重开发多种导体和半导体化学薄膜设备，如MOCVD、LPCVD、ALD、PVD、PECVD和EPI设备。中微公司开发的用于LED照明、显示和功率器件外延片生产的MOCVD设备早已在客户生产线上投入量产，并在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据领先地位。此外，中微公司正在布局湿法设备并已全面布局光学和电子束量检测设备，开发多种泛半导体微观加工设备，包括在玻璃基板上制造微观结构的大平板显示设备等。这些设备都是制造各种微观器件的关键设备，可加工和检测微米级和纳米级的各种器件。
