思锐智能完成数亿元B轮融资，聚焦半导体前道工艺设备赛道

近日，青岛四方思锐智能技术有限公司（简称：思锐智能）完成了数亿元B轮融资。本轮融资由上汽集团战略直投、尚颀资本和鼎晖投资联合领投；招商局创投、上海金浦、新鼎资本、创新工场、华控基金、青创投等知名投资者跟投；海松资本、海澳芯科、鑫芯创投、珩创投资、同歌创投等老股东持续加持。

青岛四方思锐智能技术有限公司成立于2018年，总部位于中国青岛，并在北京、上海设有研发中心。思锐智能主要聚焦关键半导体前道工艺设备，产品包括原子层沉积（ALD）设备及离子注入（IMP）设备，可广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等诸多高精尖领域。

思锐智能官方消息显示，2018年，公司完成对ALD技术发源地——芬兰倍耐克公司100%股权的收购工作。思锐智能整合倍耐克海外前沿技术研发资源，开展ALD技术国内外联合研发与国内产业化落地工作，建立了完善的ALD产品体系，覆盖全球众多头部客户并在众多细分领域取得领先的市场竞争地位。在推进ALD业务转型升级后，布局离子注入设备业务并取得突破。思锐智能以高能离子注入机为切入点开展研发，解决国内高端离子注入机”卡脖子“问题，逐步完成硅基及化合物半导体领域全系列机型的布局。

思锐智能已形成“双主业”布局，服务累计超过500家全球客户，业务范围覆盖全球40个国家和地区。

思锐智能副总经理陈祥龙近期表示，自2021年以来，思锐智能组建核心技术团队，开启离子注入设备研发攻关，2023年首台高能离子注入机取得技术突破并获得国内头部客户订单，同步持续完善业务布局。思锐智能高能离子注入机具备射频传输效率高、能量分辨率高的优势，其关键特性包括射频段传输效率达到30%-50%的水平；能量分辨率高达±1%，小于业内的±2.5%水平等，在关键设备国产化方面实现了技术领先。（校对/韩秀荣）