佳能：市场对新型纳米压印光刻机兴趣超出预期

集微网消息，日本佳能表示，市场对其新型光刻芯片制造设备的初步兴趣超出预期。

2023年10月，佳能推出了新型纳米压印光刻机，可将电路图案直接印在晶圆上，佳能强调了该设备的低成本和低功耗，其前景成为行业争论的话题。

此前佳能半导体设备业务部长Iwamoto Kazunori在解释纳米压印技术时表示，纳米压印技术就是把刻有半导体电路图的掩模压印到晶圆上。在晶圆上只压印1次，就可以在合适的位置形成复杂的二维或三维电路。如果改进掩模，甚至可以生产电路线宽达到2nm节点的产品。目前，佳能的NIL技术使图案的最小线宽对应5nm节点逻辑半导体。

佳能财务和会计总部负责人Minoru Asada 1月30日称：“虽然现在说这些设备何时能促进佳能的销售还为时过早，但反响比我们预期的要大。公司的目标是先推出用于生产存储芯片的机器，然后再扩展到其他领域。”

佳能预计，受用于人工智能任务的电源芯片和图形处理单元（GPU）需求的提振，在截至12月的财年，佳能现有光刻机的销量将达到247台，而去年同期为187台。

（校对/刘昕炜）