北方华创“一种腔室清洁方法及半导体工艺设备”专利公布

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天眼查显示,北京北方华创微电子装备有限公司“一种腔室清洁方法及半导体工艺设备”专利公布,申请公布日为2024年11月29日,申请公布号为CN119050039A。


本申请提供了一种腔室清洁方法及半导体工艺设备,该方法包括在工艺腔室中的静电卡盘满足电荷清洁的触发条件时获取挡板的当前状态,并基于挡板的当前状态以及工艺腔室的第一目标状态确定挡板满足移出条件时控制挡板移出工艺腔室,以在工艺腔室的当前状态达到第一目标状态时控制工艺腔室执行电荷清洁,电荷清洁用于中和静电卡盘的残余电荷,从而能够自动将挡板移出工艺腔室以及自动执行电荷清洁,极大提高了静电卡盘中残余电荷的清洁效率,且无需人工参与,降低了残余电荷清洁过程中的人力成本。同时,通过将挡板移出工艺腔室能够有效避免挡板对静电卡盘的残余电荷清洁效果的影响,保证了对静电卡盘中的残余电荷进行自动清洁时的清洁效果。

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