台积电冲刺先进制程,高雄2nm厂扩建

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台积电高雄新厂2nm进度超前,有意扩大高雄投资,规划于前中油高雄炼油厂土地兴建第三期厂房(P3),第四期(P4)、第五期(P5)也启动环评,并争取扩大开发面积,将在P3东侧接续扩建,延续先进制程。根据规划,P3厂在2026年完工后,预计P4、P5厂也将在2027年接力完工。

法人看好,台积电扩大高雄先进制程投资,意味客户订单持续涌入,公司有必要增加更多产能,为后续运营增添更多动能。

台积电在中国台湾布局2nm,新竹宝山、高雄新厂两路并进,预计2025年量产。高雄厂是台积电在当地的首座12英寸厂,原定以成熟制程切入,2023年8月董事会拍板朝2nm扩充发展,原规划相关设备最快2025年第三季进机,已提前至11月底进机,较原计划超前半年以上。

台积电高雄厂布局顺遂,规划在原中油高雄炼油厂土地内兴建P3,但全球半导体业急剧变动及国际竞争力,基于产业制程全球布局考量,仍具紧迫持续推动建厂运营需求,规划在P3厂房旁土地启动扩建P4、P5计划,发挥产能群聚综效。

根据环评数据,台积电正争取扩大P4、P5开发面积,原本10月规划面积约41公顷,最新定案面积增至43公顷左右,加计原申请的P3厂面积后,合计基地面积约60公顷。台积电12月26日将召开“原中油公司高雄炼油厂土地新建半导体厂扩建计划”环境影响说明书公开会议,正式对外说明。

台积电在一期园区启动第一期(P1)、第二期(P2)建厂后,今年启动P3扩建计划,但扩厂用地迫切,决定在P3厂旁接续启动P4、P5厂扩建计划。

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