积塔半导体蒸发台专利获授权

集微网消息，天眼查显示，上海积塔半导体有限公司近日取得一项名为“蒸发台”的专利，授权公告号为CN220579369U，授权公告日为2024年3月12日，申请日为2023年8月29日。

本实用新型提供了一种蒸发台。所述蒸发台包括：腔室；坩埚，所述坩埚设置于所述腔室的底部，用于放置待蒸发材料，所述坩埚具有坩埚口，所述坩埚口朝向所述腔室的顶部；水冷板，所述水冷板与所述坩埚口套接；保护罩，所述保护罩可拆卸的固定于所述水冷板朝向所述腔室顶部的一侧并覆盖所述水冷板。以上技术方案，通过在水冷板表面增设可拆卸的保护罩，使得所述保护罩覆盖所述水冷板，在维护时拆去所述保护罩并更换新的保护罩即可；减去了采用螺丝刀和锤子敲击水冷板去除表面金属层的步骤，减少了清理金属层的时间损耗，并且延长了水冷板的使用寿命。