微容科技再获得国家知识产权局授权发明专利

集微网消息（文/林雪莹）5月27日，微容科技发文称，公司再获得国家知识产权局授权的一项发明专利，名为“一种间接检测MLCC介质陶瓷晶格缺陷的方法”。近两个月时间内，微容已获两项发明专利，见证了微容科技在MLCC研发领域中尖端技术的不断突破以及大力投入技术研发的战略布局。

MLCC行业现阶段普遍使用贱金属内电极技术在中性或还原性气氛进行烧结，容易产生MLCC介质陶瓷晶格缺陷，导致MLCC的绝缘阻值劣化，影响了MLCC的可靠性。现有检测技术是通过X射线光电子能谱分析测定，但该方法操作复杂且不够直观。

在微容研发团队不懈努力下，发明了一种间接检测MLCC介质陶瓷晶格缺陷的方法：用特定测试条件，在不同时间间隔对待测品的电流取值，计算各时刻的绝缘阻值，经历10~200h绝缘抵抗IR趋于稳定无继续下降趋势，间接证明介质陶瓷晶格缺陷补充充分。

区别于现有技术，这种检测方法所用检测设备简单，易于操作，测试结果直观且产品可靠性更高，经过测试筛选的产品在后期使用上问题率更低。

微容科技基于对高端产品的坚定定位，持续专注地实施研发，将公司的技术研发实力提升到新水平，在中国电子元件协会公布的2021年百强企业中，微容科技研发实力位列国内200多家电子元件企业中的第五位。

微容科技表示，良好的研发实力和对产品的专注，让微容在高端MLCC的研发和量产上实现高效能突破，高容量和车规MLCC实现系列化量产，大大提升了公司产品竞争力，带领公司进入高端MLCC的主流厂商阵容。

（校对/Andy）