市值超2300亿元的半导体设备龙头拓荆科技，正在筹划一笔关键的产业链并购。
6月26日晚间，拓荆科技（688072.SH）公告称，公司正在筹划以发行股份及支付现金的方式购买无锡尚积半导体科技股份有限公司的控股权，并募集配套资金。因本次交易尚存在不确定性，公司股票自2026年6月29日（星期一）开市起停牌，预计停牌时间不超过10个交易日。
被收购标的：成立仅5年，专攻PVD与刻蚀设备
本次交易的标的公司无锡尚积成立于2021年6月，主营业务为半导体薄膜沉积与刻蚀设备的研发、生产和销售，核心产品包括PVD（物理气相沉积）、ETCH（刻蚀）、CVD（化学气相沉积）等半导体关键设备。
从融资历程看，这家年轻的公司颇受资本青睐。仅2025年一年，无锡尚积就密集完成了三轮数亿元级别融资，全年累计融资额超过5亿元。投资方阵容豪华，既有中车资本、江苏省战略性新兴产业母基金、广州产投等“国家队”和地方国资，也有君联资本等知名市场化机构。
在技术实力上，无锡尚积的氧化钒（VOx）薄膜沉积、氮化钽（TaN）薄膜电阻工艺、TC-SAW SiO₂薄膜沉积等产品已在客户端实现量产。其中，氧化钒薄膜技术在国内市场占有率一度高达80%。2024年，公司还开发出300mm PVD和CVD设备，并交付国内某头部客户。
补齐PVD与刻蚀短板，向平台型设备巨头迈进
对于拓荆科技而言，这笔收购的战略意图十分清晰——补齐自身在设备平台上的最后一块拼图。
拓荆科技是国内薄膜沉积设备领域的龙头，已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等薄膜沉积设备产品线，2025年PECVD设备营收达51.42亿元，同比增长75.27%。然而，在半导体前道制造的另一关键工序——物理气相沉积（PVD）和刻蚀（ETCH）领域，拓荆此前的布局相对薄弱。
有半导体行业观察人士分析认为，拓荆科技收购无锡尚积的战略重心并非规模扩容，而是实现工艺能力的补全延伸。无锡尚积同步布局PVD、CVD、ETCH三大核心设备，且产品已批量导入功率器件、碳化硅、MEMS、射频芯片等下游产线，部分性能指标甚至优于海外同类产品。
年报显示，公司2025年度实现营业收入65.19亿元，同比增长58.87%；归母净利润9.27亿元，同比增长34.67%。就在6月22日，公司刚刚完成46亿元定增募资，其中20亿元用于前沿技术研发中心建设。
交易尚处筹划阶段，不构成重大资产重组
公告显示，拓荆科技已与无锡尚积股东王世宽、夏小军等签署了《股权收购意向协议》。经初步测算，本次交易不构成重大资产重组，亦不构成关联交易，不会导致公司实际控制权变更。
拓荆科技在公告中提示，目前本次交易正处于筹划阶段，交易各方尚未签署正式协议，具体交易方案仍在商讨论证中，尚存在不确定性。标的资产估值及定价尚未确定，最终尚需提交董事会、股东会审议，并经监管机构批准后方可正式实施。
