2月27日，拓荆科技（688072.SH）发布2025年度业绩快报。报告显示，公司全年实现营业总收入约65.19亿元，同比增长58.87%；实现归属于母公司所有者的净利润约9.29亿元，同比增长35.05%；实现归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润约7.26亿元，同比大幅增长103.79%，主营业务盈利能力显著提升。
资产规模方面，报告期末公司总资产约198.25亿元，较期初增长29.45%；归属于母公司的所有者权益约66.12亿元，较期初增长25.23%，财务状况稳健向好。
2025年，随着人工智能（AI）、高性能计算（HPC）、汽车电子（智能驾驶、车联网）、机器人及可穿戴设备等新兴领域技术的快速发展和需求的激增，芯片制造厂加速推进先进制程的技术迭代，同时不断扩大产能规模。
拓荆科技积极把握半导体芯片技术迭代升级与国产替代的发展机遇，构建了较为完善的薄膜沉积设备、三维集成领域设备的产品矩阵。依托在PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等薄膜沉积设备及先进键合设备领域的技术突破与规模化量产，公司在先进制程领域核心竞争力显著提升，业务规模实现大幅增长。
公司始终坚持高强度研发投入与自主创新双轮驱动，在新产品研发、产业化落地及全系列产品迭代升级等关键领域，取得了一系列重大突破性创新成果。2025 年，公司基于新型设备平台（PF-300T Plus 和 PF-300M）和新型反应腔（pX和 Supra-D）的 PECVD Stack（ONO 叠层）、ACHM 以及 PECVD Bianca 等先进制程机台通过客户验证，实现产业化放量；应用于先进存储领域的 PECVD OPN、SiB 等先进工艺设备通过客户验证；ALD 多种工艺设备通过客户验证，其收入同比实现大幅度增长，产业化进程显著加速；在混合键合设备方面，持续拓展客户群体，收入保持高速增长趋势。公司持续完善和扩大工艺覆盖范围，整体技术实力与核心竞争力实现稳步提升。
