近日，专注于为中国先进半导体工艺设备提供综合射频零部件解决方案的励兆科技再传佳讯：2025年四季度，公司完成新一轮近亿元融资；与此同时，其位于上海临港新区的无尘车间成功生产并交付了第三百台远程等离子源（Remote Plasma Source，RPS），该产品已配套励兆客户的先进薄膜沉积设备进入到国内某存储器生产线，为国产存储芯片的生产贡献一己之力。
本轮融资由尚融资本、中比基金及老股东中芯聚源、金浦智能共同参与，所获资金支持将助力励兆科技进一步践行自身长期主义发展承诺，依托团队对先进半导体工艺射频方案的深刻理解，紧跟设备厂商在等离子体工艺上向亚纳米乃至原子级的演进需求，持续投入创新资源，为客户开发配套的综合射频解决方案。
目前励兆科技的主要产品包括各类射频电源（RF Generator），自动匹配器（RF Auto Match），远程等离子源（Remote Plasma Source），射频传感器 (RF VI Sensor)等一系列综合射频解决方案。 成立三年多来，励兆已通过自身丰富的射频产品和解决方案，先后与国内先进半导体设备客户均达成业务合作关系，产品应用场景覆盖半导体前道制程中的刻蚀，薄膜沉积和离子注入等等数十种细分工艺类型。过去一年中励兆多款产品在设备客户端完成性能和可靠性测试，并实现量产配套，随客户设备批量进入多家国内12英寸（300mm）先进工艺半导体存储及逻辑晶圆厂。
半导体行业中的摩尔定律已被广为熟知，自技术诞生之初便揭示了该产业快速发展的核心逻辑，即以持续高效的技术进步驱动各类半导体应用与需求的发展；要在半导体产业保持长期竞争力，就必须适应其技术发展变化的节拍，不断的更新自身的技术和产品来适应市场的高速发展变化。具体到射频等离子体领域，根据国际半导体设备巨头泛林集团最近对于下一代半导体工艺技术的技术展望报告，除光刻之外，下一代工艺的关键正聚焦于等离子体和产生等离子体的射频精准控制解决方案。随着 3D NAND、GAA、BSPDN 等加工工艺全面进入亚纳米的光刻极限，等离子体工程已成为继续推动先进工艺向前的唯一钥匙，精准控制工艺过程等离子体中的离子和自由基的产生和应用将成为最核心的半导体工艺能力。
随着中国半导体工艺与国外先进工艺的差距逐步加快追赶和缩小，国内晶圆厂对于国产半导体设备和关键零部件供应商的技术要求也日益提高。励兆科技秉持长期主义的技术和商业承诺，持续关注国际先进等离子体应用的未来发展方向，致力于不断提升自身的射频产品技术能力，紧密配合国产半导体设备客户对于先进等离子体的精准产生和控制的需求，力求适时提供可靠的先进射频解决方案，支持国产半导体先进工艺向前发展。
在本轮融资的支持下，励兆科技不仅将进一步巩固和加强已有射频产品和解决方案的市场推广和客户支持，更将继续围绕加强离子和自由基精准控制的先进工艺指导方向部署开发新一代射频产品和解决方案。公司计划在新的一年中，陆续向市场发布支持目前国内半导体工艺设备所需要的多级脉冲方波电源，固态电子匹配器，高密度远程等离子源，高精度在线监测射频等离子传感器，以及配套各种先进工艺的的综合射频解决方案。
尚融资本表示，励兆科技创始团队具备深厚的专业背景，长期深耕射频等离子体技术，在先进制程设备零部件领域展现出扎实的技术积累与精准的产品定义能力。随着国内半导体工艺向亚纳米级演进，等离子体工程已成为关键突破方向。尚融资本看好射频系统在半导体工艺尤其是先进工艺中的广阔应用空间，将持续坚定支持企业践行长期主义，共同推动中国半导体核心零部件技术的自主与超越。
中比基金表示，基金立足国家战略并长期看好半导体产业链发展，在射频电源国产化率较低且市场空间广阔的当下，我们高度认可励兆团队的深厚技术积淀与产品落地能力，相信企业在其细分赛道能够持续突破、不断成长。中比基金也将充分发挥其产业链布局优势，携手励兆共同推动国产半导体核心零部件自主可控，助推国内半导体产业高质量发展。
