1.西部数据NAND Flash将减产15%；
2.三星电子改进半导体存储器设计；
3.英伟达黄仁勋结束中国行转往日本大阪；
4.日本将在7所大学建立半导体人才培养基地
1.西部数据NAND Flash将减产15%
据媒体报道，NAND Flash营收排名第五大厂商西部数据日前已通知客户，将减产15%，以缩减库存。
据了解，大部分原厂是私下向客户透露减产的想法，并与客户沟通，具体减产幅度并不明确。唯独西部数据已正式通知客户，将减产15%。
2.三星电子改进半导体存储器设计
韩国半导体业界近日透露，三星电子正在改进12纳米级动态随机存取存储器（DRAM）“D1b”的设计。
三星电子于2023年首次量产“D1b”，应用于显卡DRAM和手机DRAM上。此次改变已生产一年多的DRAM设计是半导体行业中罕见的案例。
专业人士表示，改变设计并不是一个容易的决定，制造工艺产生变化后，会提高成本，此举意味着公司有改进工艺和产品的紧迫意识。
三星电子已经在根据新的“D1b”设计修改生产工艺，于2024年底下达了紧急设备订单，升级了现有生产线，并进行了技术转移。考虑到设备建设和试运行的进度，新款“D1b”将于年内量产，预计最快第二季度或第三季度发布。
除改变“D1b”设计外，三星电子还启动了名为“D1b-p”的新开发项目，以增强DRAM竞争力。
3.英伟达黄仁勋结束中国行转往日本大阪
英伟达（NVIDIA）CEO黄仁勋结束中国行程，据陆媒报导，其所乘的私人飞机转往日本大阪，软银集团等日企正在日本本土加大AI基础设施投资。
黄仁勋过去几天到访中国深圳、北京、上海等地方，据第一财经报导，黄仁勋于22日离开上海，航班追踪网站FlightRader24行程纪录显示，黄仁勋所乘私人飞机22日中午左右飞往日本大阪；英伟达未对黄仁勋行程动态予以回应。
报导提到，黄仁勋到访中国时间点正逢美国总统特朗普（Donald Trump）宣布就职时，相关动态格外地受关注；黄仁勋转往日本大阪也不让人意外，日本在美国新一波芯片出口管制框架下受到豁免，软银集团等日企正在日本本土加大AI基础设施投资。
日本是英伟达近期重点发展市场之一，大阪为日本云端服务商聚集地。报导指出，去年11月英伟达于日本东京举办AI高峰会，黄仁勋与软银集团创始人兼执行长孙正义共同宣布，将合作在日本建设AI基础设施，包括投资日本最大AI工厂。
日本其他云端服务商也在争相使用英伟达芯片建设AI基础设施，例如软银竞争对手、总部位于大阪的樱花网路公司（Sakura Internet），其正加大采购英伟达芯片。樱花网路公司与英伟达有多年合作，该公司主要服务日本客户，包括国家研究机构、大学和企业。
报导指出，在黄仁勋结束中国行程的同时，美国宣布Stargate重大AI基础设施投资计划；孙正义也出席了Stargate发布会，软银集团是计划参与方之一，预计出资金额达美金190亿元（约新台币6,207亿元）。
4.日本将在7所大学建立半导体人才培养基地
据媒体报道，日本计划在7所大学设立半导体设计和生产的相关人才的培养基地。各地区的专业教师将参与选定的大学的教育项目，培养能够立即发挥作用的人才。
报道指出，为了在增长产业与世界竞争，日本将加快强化教育基础。作为基地的大学将在2025年度内通过公开招募来选拔。日本文部科学省为完善教育环境，将分别向7所学校提供每年近1亿日元的补贴。
日本电子信息技术产业协会（JEITA）预测称，今后10年内，日本将短缺4万多名半导体人才。
