产品介绍
CD-SEM作为半导体芯片制造工厂的关键量测设备，主要用于芯片制造过程中线宽等关键尺寸的量测，其量测结果是控制光刻、显影和刻蚀等工艺的重要依据。由于CD-SEM在半导体制造和芯片生产过程中被大量应用，这就决定了设备不仅需要准备大量量测程式文件（recipe），还需管理大量量测结果文件。于是，这些文件管理方面的需求便催生了为CD-SEM设备配套的离线数据分析和管理软件。
2000年左右，随着芯片制造进入90nm，65nm节点，光刻工艺成为芯片制造良率控制的核心，CD-SEM的应用随之更为普及。同时，OPC技术也要求取得大量Wafer数据进行光刻工艺模型建模。面对行业技术、工艺的发展与演进，Hitachi和Applied Materials先后推出DesignGauge和OPCC产品，以满足CD-SEM离线量测程式建立需求和大量OPC建模数据取得需求。然而目前在国内，这两种离线数据管理软件已先后受到禁运，成为了芯片制造“卡脖子”产品之一。
东方晶源ODAS产品英文全称为Offline Data Analysis System，是为东方晶源CD-SEM设备配套的离线数据分析软件产品。主要由三个模块组成，分别是数据服务器模块（Workstation，WS），离线量测程式生成模块（Offline Recipe Generator，ORG），以及大规模自动量测模块（Large-scaled Automatic Measurement Purpose，LAMP）。
1、数据服务器模块
主要用于实时连接CD-SEM设备，收集并管理设备的各种数据，并将量测程式文件统一分发到各个CD-SEM设备进行应用。数据服务模块管理的最重要数据即为CD-SEM量测程式文件，CD-SEM设备中创建的各种量测程式文件，都可以实时被备份和存储到数据服务器中。同时，设备中所有量测程式文件的创建、修改、删除等操作都会被记录在数据服务器的数据库中，可供随时查询、修改、回滚和复原等。这有效避免了量测程式文件被误修改，误删除和错误应用，大大增强了量测程式文件的安全性。
数据服务器也具备管理CD-SEM的权限，备份设备的log文件，结果文件等功能。同时，数据服务器起着CD-SEM数据池的作用，承担设备数据的离线查看，减轻CD-SEM设备有关数据服务的负担，提升了CD-SEM设备的生产利用率。
2、离线量测程式生成模块
主要用于CD-SEM设备量测程式文件的离线生成与编辑。同时支持离线查看CD-SEM的量测结果，并可以通过修改量测参数进行重新量测。重新量测后的结果等还可以输出成excel格式文件。
离线量测程式模块还承担着量测程式文件的创建，修改和保存任务，这些任务若不在离线量测程式生成模块下，则需占用大量CD-SEM设备时间去完成，会降低CD-SEM设备的使用率，变相提高CD-SEM设备的实际成本。同时，重新量测功能的实现，也提高了CD-SEM量测结果的有效性，从另一方面降低了CD-SEM的使用成本。
3、大规模自动量测模块
主要为OPC光刻工艺建模创建量测程式文件。通常，OPC光刻工艺建模需要取得大量Wafer CD数据，并且这些CD数据要求涵盖尽可能宽的光刻条件范围。所以，OPC光刻模型建模一般需要量测上千点CD数据，这些量测的Test Pattern一般为有规律的多组Pattern逐步变化而成。依据设计版图文件建立量测程式文件，使得这类大规模量测程式文件的创立变得非常容易。与此同时，这类基于设计版图文件创立的量测程式文件不易导入人为错误，自动量测成功率高。重新量测等功能更是方便用户查看，离线重量一些较为关心的量测点。
这一模块使用先进的D2DB技术将设计版图信息导入量测程式文件进行创建，同时，东方晶源CD-SEM可运行这类含设计版图信息的量测程式，自动完成量测任务。
东方晶源的CD-SEM设备作为半导体量测设备国产替代的核心设备之一，不仅要求硬件设备知识产权自主可控，设备制造技术先进、品质稳定，还要求配套的软件产品功能丰富、配套齐全，能保障CD-SEM设备充分运转和长期数据安全。目前，CD-SEM加ODAS形成的整套系统已达到国际厂商设备同等水准，实现了国产替代。为整套光刻工艺的自主国产替代奠定了坚实的数据基础。
