10月16日，由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，芯晟半导体等协办的第八届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）在浙江嘉兴圆满落幕！来自中国、美国、德国、日本等世界各地企业、科研机构、高校等600多位技术专家、企业家和青年学者齐聚一堂，共同推动光刻技术的前沿发展。
国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）是国内外半导体工业界、学术界资深技术专家和优秀研究人员密切交流的技术研讨平台，特邀嘉宾均是国内外光刻及其相关领域的资深专家，代表了该领域国际先进水平。参会者可就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题进行研究成果分享，共同探讨图形化解决方案以及所面临的技术挑战。
本次大会由组委会秘书长、SPIE会士、中国科学院微电子研究所研究员、中国科学院大学教授韦亚一研究员担任主持。IWAPS会议主席、中国集成电路创新联盟理事长曹健林；中国光学学会副秘书长、加拿大工程院院士、中国光学学会会士、美国光学学会会士、国际光学与光子学学会会士 、美国激光学会会士顾波；中国科学院微电子研究所副所长、中国科学院大学集成电路学院副院长李泠；IWAPS-2024 程序委员会主席、FUJIFILM公司资深专家Toru Fujimori；IWAPS-2024 程序委员会主席、上海华力微电子技术专家周文湛等领导及重磅嘉宾出席并发表讲话。
组委会秘书长、SPIE会士、中国科学院微电子研究所研究员、中国科学院大学教授韦亚致辞表示，在充满不确定性的世界背景下，学术交流对技术创新尤其是图案化技术领域尤为重要，通过举办IWAPS，促进学术与产业交流合作，携手全球众多专家与学者，为光刻技术发展贡献知识财富。
组委会秘书长，SPIE会士
中国科学院微电子研究所研究员
中国科学院大学教授韦亚主持开幕式
IWAPS会议主席，中国集成电路创新联盟理事长曹健林致辞表示，大会至今已举办八届，此次选址嘉兴南湖更是意义非凡，在这红色土壤上，感怀中国共产党先辈创党艰辛历程，不断攻克难关，建立繁荣富强的新中国。而今我们在这里举办国际先进光刻技术研讨会，不忘先辈初心，继续努力钻研核心技术，以国人力量践行中国特色发展道路，将中国技术发扬光大。
IWAPS会议主席
中国集成电路创新联盟理事长曹健林致辞
中国光学学会副秘书长、加拿大工程院院士、中国光学学会会士、美国光学学会会士、国际光学与光子学学会会士 、美国激光学会会士顾波表示，目前，中国的先进光刻技术发展存在许多限制和障碍，但这也为该领域研究人员提供了诸多机会。希望大家能够将个人研究与国家实际需求紧密结合，真正服务于中国集成电路产业的发展需求。始终关注超精密、深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光学技术、人工智能辅助技术、GPU 加速技术等最新发展。立足国情，放眼世界，强化交流，共促合作。
中国光学学会副秘书长
加拿大工程院院士中国光学学会会士
美国光学学会会士，国际光学与光子学学会会士
美国激光学会会士顾波致辞
中国科学院微电子研究所副所长/研究员、中国科学院大学集成电路学院副院长李泠表示，目前遵循摩尔定律的集成电路微缩已经面临挑战，晶体管的物理极限日益逼近，而人们对低功耗和高性能芯片的需求却愈加的迫切，这些为光刻技术的发展带来了巨大的压力，在这样的背景下，加强国际合作和学科交叉，共同推动光刻技术的进步，势必为人类的发展带来深远的影响。这次会议聚焦光刻技术前沿，为国内外半导体工业界和学术界提供了一个重要的交流平台，这对于促进国际交流，推动学科发展和产学研合作同样具有重要的意义。
中国科学院微电子研究所 副所长/研究员
中国科学院大学集成电路学院副院长李泠致辞
在这为期两天的研讨会上，来自国内外光刻技术领域的专家依次登台，围绕光刻设备、工艺、检测与计量等课题，分享各自在其领域上取得的新突破、学术成果与产品。大家针对分享课题进行互动探讨，共同研究细分领域解决方案与技术挑战，探寻更多的合作机会与发展可能。
