日本产业技术综合研究所（AIST）正在与英特尔公司合作，投资1000亿日元（7亿美元），建立一个尖端半导体研究中心。该研究中心将于2027年投入使用，将专注于先进半导体的开发。
英特尔将与AIST合作建立该研究中心，并由AIST负责运营。英特尔将提供极紫外（EUV）光刻技术方面的专业知识，该技术对生产小于5nm的芯片至关重要。这将是日本研究所首次安装EUV光刻设备。
英特尔和AIST还将成立一家合资公司来监督该项目。AIST将投资约1000亿日元，并寻求日本半导体设备和材料供应商的进一步资助。
研究中心可能设在AIST位于茨城县筑波的主基地，预计将聘请约100名专家，其中包括半导体公司的退休人员。
资金将来自日本政府补贴和“后5G基金”等先进半导体开发项目，部分企业投资将填补缺口。鉴于EUV设备成本高昂，企业可以支付使用费来使用这些工具，并参与AIST的项目。
英特尔在日本开发先进芯片技术的努力不止于此。2024年4月，英特尔与欧姆龙和夏普合作成立半导体后端工艺工程自动化和标准化研究协会（SATAS），随后，AIST、TDK和Aoi Electronics也加入了该协会。（校对/张杰）
