为进一步凝聚EDA产业力量，加速EDA技术突破和产业推广，推动产业生态多元化发展，第二届设计自动化产业峰会IDAS 2024（Intelligent Design Automation Summit 2024）于2024年9月23日-24日在上海·张江科学会堂隆重举行。作为本次大会铂金赞助企业、EDA²理事长单位，东方晶源精彩亮相，与众多行业领袖齐聚一堂，开展深度交流与思想碰撞，共同探讨产业发展之路，为电子设计自动化领域的发展擘画新的篇章。
EDA²会员大会
9月22日，EDA开放创新合作机制（简称“EDA²”）2024年度会员大会在上海·张江科学会堂隆重举行。东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司董事长、首席技术官俞宗强博士出席会员大会。在颁奖环节，俞宗强博士与EDA²物理实现分委会副主任、产教融合工作组副组长黄宇博士为ISEDA Best Paper奖项获得者颁奖。
在会员大会的晚宴中，俞董发表致辞。俞董表示：东方晶源始终致力于解决集成电路制造中最为关键的良率管理问题，将继续以客户需求为中心，进行技术突破和产品创新，向着成为集成电路领域良率管理领导者的目标不断迈进。同时，感谢EDA²为我们提供了一个交流合作的桥梁，让我们有机会结识到许多志同道合的伙伴。未来，东方晶源将继续全力支持EDA²的各项工作，携手各会员单位，共同应对挑战，推动技术革新。
展台展示
在东方晶源展台，旗下计算光刻平台PanGen®、良率管理平台YieldBook等产品吸引了众多参观者驻足，特别是近期PanGen DMC®、PanGen ILT®革新等成果成为大家关注和讨论的焦点，展台工作人员就更多技术细节与大家积极交流、深度沟通。
专题演讲
在晶圆制造论坛，东方晶源技术专家带来题为《AI快速光刻反馈引擎——版图光刻效果立等可现 敏捷反馈助力实现DTCO》的报告。为解决芯片制造的复杂度以及芯片设计在反馈时间长、成本高等方面的挑战，东方晶源打造出D2C（Design To Contour）快速光刻反馈引擎，为从制造到设计提供快速反馈。
目前D2C快速光刻反馈引擎已成功搭载到PanGen DMC®平台上，成为该平台最为核心的模块，助力PanGen DMC®可基于原始Design快速、精准估计该Design最终硅片上的形貌（Contour），进而提前预知设计版图存在的潜在风险。值得一提的是，在国内某先进节点FAB内实测结果表明，东方晶源PanGen DMC®在全芯片尺度上预测结果与实际的差距在超过99%的版图位置上小于1nm。
未来，东方晶源将继续深化在计算光刻、良率管理等制造类EDA领域的发展，以更加创新、前瞻的技术方案解决更多客户痛点，为产业发展不断赋能。
