传ASML将在未来几个月推出2nm制造设备 英特尔已采购6台

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近日有消息称,ASML将于未来几个月内推出2nm制程节点制造设备,并计划在2024年生产10台2nm设备,英特尔已采购其中6台。新一代的高数值孔径 (High-NA) EUV光刻机可以将聚光能力从0.33提高至0.55,能够获得更精细的曝光图案,用于2nm制程节点。未来几年,ASML希望将这种最新设备的产能提高至每年20台。

此前,英特尔表示已开始在其位于爱尔兰价值185亿美元的工厂采用EUV光刻机进行大量生产。爱尔兰厂是英特尔首次尝试使用EUV 技术进行大量制造。英特尔希望凭借其制造技术重新夺回领先地位。

自2017年ASML的第一台量产的EUV光刻机正式推出以来,三星的7nm、5nm、3nm工艺,台积电的第二代7nm、5nm、3nm工艺的量产都是依赖于0.33 数值孔径的EUV光刻机来进行生产。目前,随着三星、台积电、英特尔3nm制程的相继量产,目前这三大先进制程制造厂商都在积极投资2nm制程的研发,以满足未来高性能计算等先进芯片需求,并在晶圆代工市场的竞争当中取得优势。而2nm工艺的实现则可能需要依赖于ASMLHigh-NA EUV光刻机。

目前ASML正在开发的0.55 NA的High-NA EUV光刻机,分辨率为 8nm,能够帮助芯片制造商生产2nm及以下更先进制程的芯片,并且图形曝光的成本更低、生产效率更高。据研究机构KeyBanc此前表示,一台0.55 NA EUV光刻系统的成本预计为3.186亿美元,而正在出货的0.33 NA EUV光刻系统则为1.534亿美元。

责编: 姜羽桐
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