机构：佳能纳米压印技术或因量产问题而无法与ASML竞争

针对网传的“佳能纳米压印技术可能与ASML竞争”，TechInsights发文指出，这似乎言过其实——或者充其量是若干年以后的事。

据悉，佳能于2014年通过收购Molecular Imprints成为了纳米压印技术（NIL）领导者。NIL工具主要用于非易失性存储器和某些类型的图像传感器。到目前为止，佳能已经交付了60个纳米压印光刻工具，可以解决20nm制程的问题。

与UV工具相比，NIL的优点之一是更高的功效。NIL可以在一个通道中“打印”三维图案，而UV工具可能需要多达10个通道来创建相同的图案。NIL可以潜在的降低功耗(从而降低碳足迹)、成本和生产时间——尽管这些好处可能并不适用于所有芯片设计。低产量和缺乏更广泛的行业应用表明，NIL一直难以与DUV和EUV工艺竞争。缺陷(导致低产量)是NIL的一个关键问题。

TechInsights分析指出，目前只有ASML生产的光刻工具可以处理5nm和3nm工艺，十多年来，ASML一直垄断着高端半导体工具市场。佳能宣布推出采用纳米压印光刻(NIL)技术的光刻设备，声称能够制造5nm及以下的芯片。但即使佳能的技术在5nm被证明是可行的，它也可能因规模太小或太晚而无法在半导体制造的前沿领域竞争。（校对/赵碧莹）