俄罗斯开发出可替代光刻机的芯片制造设备

来源:爱集微 #芯片# #蚀刻# #俄光刻设备#
2.3w

集微网消息俄罗斯圣彼得堡理工大学(SPbPU)的研究人员开发了一种国产光刻复合设备,用于利用蚀刻生产无掩模芯片,这对于俄罗斯微电子实现自给自足至关重要。其中一种设备的成本为500万卢布(4.95万美元),另一种设备的成本未知。

该综合体由两种设备组成。第一个设备专为“无掩模纳米光刻”而设计,它无需掩模即可将图像投影到基板上。第二个设备建立在第一个设备制作的基板图案基础上,负责利用蚀刻形成纳米结构。此外,该装备可以为船舶超压传感器等应用制作硅膜。值得注意的是,这些膜被认为比其他方法生产的膜更可靠、更灵敏。

目前,俄罗斯芯片生产仅限于65nm工艺技术。与此同时,全球标准已经缩减至3nm工艺。另外值得注意的是,下诺夫哥罗德应用物理研究所(IAP RAS)的目标是开创一种能够生产7nm芯片的光刻技术,尽管要等到2028年才能实现。为了推动这一势头,俄罗斯工业贸易部已投资11亿卢布用于开发微电子专用光刻材料。

除了制造芯片或硅膜之外,这两种设备还可以使其他行业受益匪浅。例如,它们可以将雷达设备的使用寿命延长20倍以上。在绿色能源领域,这些设备可以使太阳能电池板小型化,使其更轻并提高其效率。

开发人员对他们的发明有着宏伟的愿景。他们正在考虑将人工智能(AI)融入这两台设备中,以增强它们的能力。然而,目前尚不清楚俄罗斯芯片制造商是否对这些设备感兴趣,也没有明确的时间表表明这些设备将何时投入实际生产中。

(校对/张杰

责编: 李梅
来源:爱集微 #芯片# #蚀刻# #俄光刻设备#
THE END

*此内容为集微网原创,著作权归集微网所有,爱集微,爱原创

关闭
加载

PDF 加载中...