据悉,由创微微电子(常州)有限公司研发的第一台8吋清洗酸槽机台已于6月18日顺利交付上海积塔半导体有限公司,并已顺利开始上酸验证产品阶段,运行情况良好。
与此同时,在接下来的设备招标中,创微也成功中标12台清洗设备,该批设备将用于集成电路前段湿法刻蚀、去胶、清洗以及后段金属刻蚀、有机物去除相关工艺,标志着创微在湿法清洗领域已达到国际领先水平。也标志着创微与积塔达成更深层次的合作,进一步推动了积塔半导体设备国产化的进程。
双方后续发展空间巨大、前景良好,期待创微与积塔一起努力,继续合作,共同谱写中国半导体设备国产化新篇章!