11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。本届进博会技术装备展完整覆盖集成电路全产业链上下游，三星、SK海力士、高通、英特尔、AMD、新思等国际龙头悉数到场。会上，上海微电子装备集团（SMEE）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，集中展示了我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。
SMEE表示，本次展出的模型采用透明剖视设计，可直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。
该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线。整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。
据悉，目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆。在售的SSC800系列KrF与SSB800系列I-line机型基于自研双工件台平台，均搭载国产自主大NA物镜，关键曝光成像指标对标国际标杆，SSC800整体性能跻身行业第一梯队。
基于全栈自主可控技术底座，该平台关键零部件国产化率突破90%，已实现定型与规模化量产，填补国内空白。多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%。
SMEE成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，也是我国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑主体，业务覆盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售与全流程技术服务。
值得关注的是，2022年12月，美国商务部曾将上海微电子等36家中国实体列入“实体清单”；股权结构方面，上海电气控股集团有限公司为SMEE第一大股东，持股34.9099%。在此背景下，前道光刻装备的全链条自主可控，对国内半导体产业链安全的意义进一步凸显。
公司表示，将坚持自主创新深耕与产业链协同联动并行，与上下游供应链、行业伙伴深度协作，携手构建开放良性的半导体产业生态，在实现自身稳健运营的同时，持续为我国半导体产业高质量升级提供核心装备支撑。
