美光将在日本广岛建立新芯片厂 最快2027年底投入运营

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美光近日宣布将在日本广岛县建设一座新的DRAM芯片制造工厂,并引进极紫外光刻(EUV)设备,最快将于2027年底量产先进DRAM。

新厂的总投资额预计在6000亿至8000亿日元(约合38亿至51亿美元),2026 年初动工。这一投资将用于建设一个先进的制造设施,其中包括安装EUV设备。

美光原本早就有在日建厂的计划,最初的计划曾预计推动新厂在2024年便投入运营。但此前,由于市场状况不佳,这一建厂计划一度遭到搁置。而如今,随着芯片市场回暖,尤其是人工智能热潮下DRAM芯片需求火爆,美光科技又重新推动了这一计划。

广岛厂是2013年美光并购日本DRAM大厂尔必达(Elpida)后纳入的设施,有超过4000名工程师和技术人员。

美光公司日本负责人Joshua Lee去年12月曾表示,美光位于日本广岛的工厂将于2025年生产最先进的存储芯片“1γ(Gamma)DRAM”。此外该厂也将生产生成式AI用高带宽存储器(HBM)。

2023 年10 月日本经济产业省宣布,补助美光广岛厂最高1920亿日元(约合13亿美元)。

美光称包含广岛厂,数年内会投资日本最高5000亿日元。美光在日本的多个工厂,是其研发路线图和大规模生产的核心,用于美光在其产品线中的尖端 DRAM技术。(校对/孙乐)



责编: 刘洋
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