4月29日，拓荆科技发布2023年年度报告称，公司实现营业收入270,497.40万元，同比增长58.60%；实现归属于上市公司股东的净利润66,258.38万元，同比增长79.82%；实现归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润31,211.97万元，同比增长75.29%。
拓荆科技表示，报告期内，公司不断突破核心技术，并在推进产品产业化和各产品系列迭代升级的过程中取得了重要成果，产品市场竞争力持续增强，同时，受益于国内下游晶圆制造厂良好的发展态势，国内半导体行业设备需求增加，公司产品销售订单大幅增加，营业收入维持高增长趋势。
报告期内，公司继续保持较高水平的研发投入，研发投入金额达到57,594.89万元，同比增加52.07%，研发投入占营业收入比例达21.29%。公司通过高强度的研发投入，保持细分领域内产品技术领先，同时，不断丰富设备产品品类，拓宽薄膜工艺应用覆盖面，在新工艺机型研发、验证，以及产品出货、产业化应用等方面均取得了优异成果。
报告期内，公司推出了两款新型设备平台（PF-300TPlus和PF-300M）和两款新型反应腔（pX和Supra-D），新型设备平台的设计进一步提升了设备产能，机械产能可提高约20%至60%，新型反应腔进一步提升了薄膜沉积的性能指标，包括薄膜均匀性、颗粒度等指标，可以满足客户在技术节点更新迭代的过程中对高产能及更严格的薄膜性能指标的需求，新型设备平台及反应腔均已出货至不同客户端验证。报告期内，超过130个新型反应腔（pX和Supra-D）获得客户订单，超过40个新型反应腔（pX和Supra-D）出货至客户端验证。
随着公司业务规模逐步扩大和先进产品陆续推出，公司设备出货量逐年大幅增加。2023年度，公司出货超过460个反应腔。截至报告期末，公司累计出货超过1,510个反应腔，进入60多条生产线。预计2024年全年出货超过1,000个反应腔，将创历史新高。
报告期内，公司进一步扩大以PECVD、ALD、SACVD及HDPCVD为主的薄膜工艺覆盖面。截至报告期末，公司推出的PECVD、ALD、SACVD及HDPCVD等薄膜设备可以支撑逻辑芯片、存储芯片中所需的全部介质薄膜材料和约100多种工艺应用。
报告期内，公司设备在客户端产线生产运行稳定性表现优异，平均机台稳定运行时间（Uptime）超过90%（达到国际同类设备水平）。公司薄膜系列产品在晶圆制造产线的量产应用规模持续扩大，截至本报告期末，公司薄膜沉积设备在客户端产线生产产品的累计流片量已突破1.56亿片。
截至报告期末，公司在手订单（不含Demo订单）金额达到64.23亿元人民币。此外，公司积极拓展海外市场，报告期内出货一台PECVD设备至海外市场。
同日，拓荆科技发布2024年第一季度报告称，实现营业收入47178.97万元，同比增长17.25%；归属于上市公司股东的净利润1047.17万元，同比下降80.51%；归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净亏损4420.93万元。
拓荆科技表示，2024年第一季度验收机台主要为新产品，新产品验收周期长于成熟产品，因此，2024年季度性收入确认的分布将有一定程度延后；2024年第一季度出货金额同比增长超过130%，业务规模的增长带来相关费用较大幅度的增加；2024年第一季度不断拓展新产品和新工艺，仍然保持较高的研发投入，研发费用达1.53亿元，同比增长78.09%；综上原因，费用增幅远大于收入增幅，致公司扣非前、后归母净利润同比下降。
