ASML向英特尔交付第一套“High NA”极紫外光刻系统

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集微网消息,荷兰半导体设备制造商ASML 12月21日表示,将向英特尔交付首批新型"High NA"极紫外光刻系统。

每台新机器的成本将超过3亿美元,预计将帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体。

ASML在社交媒体平台上发布了这台机器的一部分从荷兰维尔德霍芬总部出发的照片,照片中机器的一部分被装在一个保护盒里,周围系着一条红丝带。

ASML表示:“我们很兴奋,也很自豪能将我们的第一个High NA EUV系统交付给英特尔。”

ASML在光刻系统市场占据主导地位。光刻系统是一种使用激光来帮助制造芯片电路的机器。High NA机器组装后将比一辆卡车还大,将用250个单独的板条箱运送,其中包括13个大集装箱。预计将从2026年或2027年开始用于商用芯片制造。

英特尔于2022年订购了第一台High NA试验机。其他已订购这款机器的芯片制造商包括台积电、三星、SK海力士和美光。

ASML在11月曾称,该公司预计将在今年年底前交付首批试点工具。

责编: 李梅
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