上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布

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集微网消息上海微电子装备(集团)股份有限公司于11月28日公开了其最新的光刻机相关专利。据天眼查显示,上海微电子公开的专利名为“投影物镜光学系统及光刻机”,申请公布号CN117130226A。

该专利摘要显示,本发明提供了一种投影物镜光学系统及光刻机,所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面到像面依次包括:第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组与第四透镜组。其中,所述第三透镜组与所述第二透镜组关于所述光阑对称,所述第四透镜组与所述第一透镜组关于所述光阑对称,所述投影物镜光学系统是对称结构,且所述投影物镜光学系统中所有的透镜组均具有正光焦度,以此可以在提高成像质量的基础上,增大曝光系统的视场尺寸,提升产率。

上海微电子装备(集团)股份有限公司成立于2002年3月,法定代表人为干频,经营范围含半导体装备等的开发、设计、制造、销售及技术服务等,由上海电气控股集团有限公司(42.3%)、上海科技创业投资有限公司(14.21%)等共同持股。

(校对/张杰

责编: 李梅
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