俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机，2026年生产130nm光刻机

集微网消息，俄罗斯正在研发生产芯片的光刻机，其工业和贸易部副部长Vasily Shpak表示，2024年将开始生产350 nm光刻机，2026年启动用于生产130nm制程芯片的光刻机设备，生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。

Vasily Shpak在接受采访时表示，全球只有两家公司生产此类设备——日本尼康和荷兰ASML。

对于半导体技术的重要性，Vasily Shpak称，“一个简单的逻辑链：如果没有微电子主权，那就没有技术主权，那么你在国防安全和政治主权方面就非常弱。”

现在俄罗斯已经掌握了使用外国制造设备的65nm技术，但无法生产光刻机。由于外国公司被禁止向俄罗斯出口现代光刻设备，该国正在匆忙开发自己的生产设备。

Vasily Shpak表示，2024年就将拨款2114亿卢布用于国内电子产品的开发。

Shpak说，350nm-65nm制程芯片用于微控制器、电力电子、电信电路、汽车电子等，这些应用大约占市场的60%。专家表示，这项技术在世界范围内的需求量很大，并且将在至少10年内拥有持续需求。

当被问到可能遭遇的阻力时，Vasily Shpak说，“我不想抱怨，所有的问题都不是问题，因为这关系到我们拥有哪些机会以及所设定的目标。”

（校对/孙乐）