8月3日，微导纳米披露最新调研纪要称，公司半导体 ALD 设备的应用场景均代表国内半导体各细分领域的工艺多元化发展方向，在逻辑芯片、存储芯片、新型显示芯片、化合物半导体领域均有设备订单，并逐步推动在客户端验证或验收。
公司基于客户关键工艺开发的战略需求推出的 iTronix® 系列 CVD 设备，是微导纳米基于客户关键工艺开发的战略需求，自主研制的新产品系列；适用于氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、非晶硅等多种薄膜的沉积工艺，可广泛应用于逻辑、存储、先进封装、显示器件以及化合物半导体等领域芯片制造。
在半导体领域内，微导纳米是国内首家成功将量产型 High-k 原子层沉积（ALD）设备应用于 28nm 节点集成电路制造前道生产线的国产设备厂商，已与国内多家厂商建立了深度合作关系，相关产品涵盖了逻辑、存储、化合物半导体、新型显示等诸多细分应用领域，多项设备关键指标达到先进水平。
微导纳米称，公司作为国内薄膜沉积设备供应商，可以根据下游企业的实际需求，针对客户的工艺和薄膜性能需求快速响应，及时满足客户产线需求。公司技术服务体系健全，为客户提供及时的驻厂技术服务支持，及时到达现场排查故障、解决问题，保证快速响应客户的需求，缩短新产品导入的工艺磨合时间。
在订单方面，微导纳米表示，目前公司在手订单充裕，为满足快速增长的订单交付需要，公司通过在供应链、生产制造、内部管理方面的多举措优化提升保障产品按期交付，缩短交期，保障交付。
其指出，随着摩尔定律不断演化，集成电路的特征尺寸及刻蚀沟槽不断微缩，晶圆制造复杂度和工序量大幅度提升，ALD 等先进真空薄膜技术在半导体设备国产化进程中扮演越来越重要的角色。终端应用需求增长、进口替代和自主可控等因素驱动了国内晶圆厂逆周期扩产和工艺迭代升级，加速了国内半导体行业头部客户对国产 ALD 设备的产业化验证。
作为国内领先的半导体薄膜沉积设备供应商，微导纳米将持续加速半导体领域内各细分领域的产品研发、产业验证和应用，实现多项薄膜沉积和处理技术国产化、产业化的突破，在保持 ALD 产品市场竞争力和占有率的同时，不断推出更多具备竞争力的例如 CVD 等薄膜沉积系列产品。
