中微公司：ICP刻蚀设备满足55nm，40nm、28nm所需

作者：日新 2023-04-25

来源：爱集微 #中微公司#

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集微网消息，近日，有投资者在投资者互动平台提问：公司ICP刻烛设备还需几年才能达到CCP刻烛设备是水平，公司ICP刻烛设备何时可以覆盖国内半导体刻烛设备的所有需求?

中微公司(688012.SH)4月24日在投资者互动平台表示，公司已有的ICP刻蚀设备可以满足55nm，40nm和28纳米逻辑芯片制造中的ICP刻蚀工艺，以及在更先进的逻辑芯片、DRAM、3DNAND存储芯片和特色器件等芯片制造中不断拓展可刻蚀应用范围。相关情况请以公司披露的定期报告及公告为准。

截至发稿，中微公司市值为1154.82亿元，股价为187.15元/股，较前一日收盘价上涨1.71%。

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