佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机

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集微网消息,3月13日,佳能官宣发售面向前道工序的半导体光刻机新产品——i线步进式光刻机“FPA-5550iX”,该产品能够同时实现0.5μm(微米)高解像力与50 x 50mm大视场曝光。

该产品可应用于全画幅CMOS传感器制造领域中,也可应用于头戴显示器等小型显示设备的曝光工序中。此外,随着先进的XR器件显示器需求增加,该产品也可广泛应用于大视场、高对比度的微型OLED显示器制造。新产品“FPA-5550iX”不仅能够应用于半导体器件制造,也可以在最先进的XR器件显示器制造等更广泛的器件制造领域发挥其作用。

“FPA-5550iX”主要特点有:1、通过制造方法的革新,兼顾高解像力与大视场曝光,实现更加稳定的镜头供应;2、通过采用可读取各类对准标记的调准用示波器,进一步加强制程对应能力。

责编: 赵碧莹
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