• 收藏

  • 点赞

  • 评论

  • 微信扫一扫分享

“新无止境,盛势闪耀”盛美上海举行上市一周年庆典暨Track新产品发布会

来源:爱集微

#盛美上海#

2022-11-18

集微网报道,“新无止境,盛势闪耀”!11月18日,盛美半导体设备(上海)股份有限公司(盛美上海)科创板上市一周年庆典暨新品发布会在上海隆重举行,盛美上海总经理王坚致辞,向一直以来支持和关心公司发展的各级政府、广大客户、投资者、股东、合作伙伴以及社会各界表示衷心的感谢,向为盛美上海发展挥洒汗水、创造价值的所有奋斗者表示由衷的敬意。今后盛美上海将持续秉持“差异化创新”的战略,践行“国内国际双循环相互促进”的新发展理念,致力成为全球化发展的平台化公司。

2021年11月18日,盛美上海在上交所科创板挂牌上市,开启了公司在中国资本市场发展的新篇章。王坚回顾了一年来盛美上海的创新之路,在践行“国内国际双循环相互促进”的新发展理念加持下,公司过去一年在出货和市场表现频频取得佳绩,在中国以外的主要半导体制造商的销售取得了良好进展,开拓了全球重量级客户,实现全球化战略的又一个里程碑。截至今天,盛美上海的清洗技术可服务市场超过80%的清洗设备市场,随着超临界二氧化碳干燥设备及其他设备的推出,未来有望超过90%;公司产品可以覆盖85亿美元市场,随着今后两款全新产品计划的稳步推进,盛美上海有望实现可服务市场翻一番,从而打造成为全球化发展的平台化公司。

与此同时,盛美上海在过去一年里积极承担上市公司社会责任,借助公司已有市场地位、技术优势、工艺积累和行业经验,加大上游零部件企业孵化和培育计划,为建设健康的全球半导体产业生态贡献力量。

盛美上海资深市场销售总监王希回顾了一年来盛美上海新产品推进节奏。自2021年12月以来,以平均两个月一个新品的速度,公司相继发布了新型化合物半导体电镀设备、新型化合物半导体系列湿法设备、槽式清洗超低压干燥( ULD )技术、全新升级版先进封装用涂胶设备、新型化学机械研磨后(Post-CMP)清洗设备、ALD(热原子层沉积)立式炉设备和湿法金属剥离设备,极大丰富了公司从清洗、电镀、先进封装湿法设备到立式炉管干法设备领域的产品线。

在最重磅的新产品发布环节,盛美上海董事长王晖隆重介绍了全新的Ultra LITH前道涂胶显影设备,该Track设备采用与目前业界主流不同的全新架构设计,配置具有4个12英寸装载端口,8个涂胶腔和8个显影腔,最大产出率可达210WPH,适用于i-line,KrF和ArF等多种涂胶显影工艺,支持主流的光刻机接口。同时盛美上海还自主开发了配套的控制软件,实现了复杂环境下的多机械手调度技术,优化了晶圆传输路径,提高设备产出率。该全新架构申请了全球专利保护,支持12个涂胶腔和12个显影腔,可达到300WPH的产出。为了满足下一代光刻机的高产出需求,该全新架构还可配备更多涂胶腔和显影腔,使其产出达到400WPH以上。

全新的Track设备基于盛美上海自主专利设计研发,共申请相关专利30个,已获授权14个,并且在上海设计、上海制造,新产品的发布也标志着盛美进入了前道光刻领域,也将开启新的征程。

“风物长宜放眼量”。征途漫漫,惟有奋斗,盛美上海在未来的道路上将再接再厉、不遗余力,在迈向卓越的道路上携手共进,勇往直前,为中国乃至全球半导体行业贡献盛美解决方案,闪亮盛美品牌!

责编: 爱集微

朱秩磊

作者

微信:AileenZhu

邮箱:zhuzl@lunion.com.cn

作者简介

爱集微资深分析师,专注半导体产业。邮箱zhuzl@lunion.com.cn

读了这篇文章的人还读了...

关闭
加载

PDF 加载中...