拓荆科技首轮问询回复:晶圆厂需求增加等原因致PECVD销售收入大增

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集微网消息,2021年9月10日,拓荆科技股份有限公司(以下简称“拓荆科技”)就上海证券交易所关于“主要产品销量及销售价格分析”等问询问题进行了回复。

拓荆科技表示,2018-2020年度、2021年1-3月,公司主要产品为PECVD设备,已实现产业化应用并实现销售的产品包括12英寸PECVD设备(PF-300T)和8英寸PECVD设备(PF-200T)。PF-300T设备主要应用于28nm以上逻辑芯片及FLASH、DRAM存储芯片制造,PF-200T设备主要应用于90nm以上集成电路前道工艺及3DTSV先进封装环节。

拓荆科技的薄膜沉积设备由1个平台(TM)和多个反应腔(PM)组成,PM的数量通常为1-3个,通常PM数量越多,设备的售价越高。

2018-2020年度,拓荆科技PF-300T产品销量逐年大幅增长,与其整体经营规模变动趋势相符。

2020年度,拓荆科技PF-200T产品销量总体与2019年度持平。其主要原因系近年来,全球新增逻辑芯片产能制程越来越先进,通常用于90nm及以下制程的集成电路制造,因此半导体设备市场的增长主要集中在12英寸设备市场,8英寸设备市场相对稳定。

2018-2020年度、2021年1-3月,拓荆科技PF-300T销售单价基本保持平稳。2019年度,拓荆科技PF-200T平均销售单价较2018年度上升34.54%;2021年1-3月,拓荆科技PF-200T平均销售单价较2020年度下降31.49%。其主要原因系2018年和2021年1-3月,拓荆科技均仅销售1台PF-200T设备,且分别为其销售给相应客户的首台PF-200T设备,在价格上给予了优惠。

综上,拓荆科技表示,公司PECVD销售收入大幅上升原因,主要系PF-300T销售数量上升。销售数量上升的原因为:(1)全球半导体行业处于需求增长的上行周期,下游晶圆厂的需求增加,对半导体专用设备的需求也随之上升。(2)随着我国半导体产业发展阶段逐步走向成熟,国内晶圆制造厂商在采购半导体专用设备时,开始注重供应链安全和成本控制。因此产品性价比高、能满足特定产品个性化需求并能提供及时、快速售后服务的国产半导体设备成为国内各大半导体制造商的重要战略选择。给拓荆科技扩大销售规模提供了良好的条件。(3)凭借着自身技术优势和创新能力,拓荆科技的薄膜沉积设备在前期通过了多家客户的验证。(4)2018-2020年度、2021年1-3月,国内下游晶圆厂进行了扩产。2019年以来,华虹半导体(无锡)项目、广州粤芯半导体项目、长鑫存储DRAM项目正式投产。2020年以来,长江存储、广州粤芯、上海积塔、中芯南方、士兰微(厦门)、广东海芯项目等产线也取得新进展。国内下游晶圆厂的扩产给拓荆科技销量增长提供了良好契机。(校对/Andy)

责编: 黄仁贵
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