南大光电：ArF光刻胶目前已经签订小批量订单

集微网消息，9月10日，南大光电在互动平台表示，公司已建成年产25吨的ArF光刻胶产线，目前签订了小批量订单，尚未开始规模量产。

南大光电正在研发和产业化的是ArF光刻胶。长期以来，全球高端光刻胶市场被以日本合成橡胶、东京应化、信越化学、富士电子材料等为代表的国外技术垄断，我国在该领域仍有大量品种短缺或空白。公司研发的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业客户认证，其余客户的认证工作正在积极推进。

据悉，光刻胶核心壁垒包括原材料壁垒、配方壁垒、设备壁垒和认证壁垒。当前，在技术积累、行业高景气度、国内晶圆厂扩产、以及信越断供等因素影响下，国产光刻胶正处于替代窗口期，行业壁垒有望逐步被打开。

此外，在光刻胶产业最核心的半导体光刻胶领域，目前国产替代趋势正愈演愈烈，除了下游厂商从供应链安全角度扶持国产光刻胶以及国家政策支持等因素外，还有国内外晶圆厂扩产潮带来的需求爆发和认证窗口期。再加之全球光刻胶巨头信越化学受地震影响而减产，断供了部分中小晶圆厂，进一步加剧了半导体光刻胶产品短缺，也为国内光刻胶企业提供了宝贵的替代窗口期。（校对/Arden）