2021年，晶洲装备迎来新的家园，站在新的高度，踏上了新的征程。新厂竣工伊始，晶洲接获某大客户大尺寸显示基地示范工厂G8.5刻蚀设备订单，历时130余天，G8.5刻蚀设备较之标准生产周期提前50天超前完成生产，顺利下线。这是我司新工厂投入使用后首批交付的主工艺设备，该订单的接获，体现了行业标杆企业对晶洲研发设计以及生产能力的认可。
湿法刻蚀设备主要应用于平板显示制程的阵列(Array)段，其原理是利用化学的方法对经过曝光与显影后的基板表面金属膜层进行均匀刻蚀，进而形成光刻定义的电路图，是图形化工艺的关键制程，一向由进口设备商垄断，国内厂商少有涉及。
2018年，晶洲装备G6AMOLED湿法刻蚀设备成功入选江苏省“首台套”重大装备产品，填补国内空白的同时，打破了国外进口设备的垄断局面，并且在结构设计、功能实现上与进口设备媲美。
2020年，晶洲装备G8.5大世代设备技术陆续突破，显影、刻蚀、剥膜等一系列主工艺设备形成批量订单，并陆续交付，全面覆盖了ITO、IGZO、Ag、Mo、Al、Cu等各种膜材的刻蚀工艺。到了2021年度，随着新厂房的竣工，江苏省硅基湿制程智能制造装备工程技术研究中心、物理与化学实验室等即将投入使用，晶洲的研究开发能力又迈上了新的台阶。
近年来，随着我国电子产业的发展，下游市场需求增加，在市场利好的情况下终端显示企业纷纷扩充产能。为了助力客户产能爬坡，按时、保质交付产品，在疫情期间，晶洲一方面做好防疫工作，另一方面组织多部门通力协作，明确生产任务、时间节点、工作分配，甚至牺牲部分休息时间，连续奋战。历时130余天，G8.5湿法刻蚀设备交付周期较之标准工时提前50天完成，顺利下线，助力客户产能达峰。
