• 收藏

  • 点赞

  • 评论

  • 微信扫一扫分享

中电科200mm抛光设备已进入中芯国际、华虹宏力、台积电、联电等国内大线

来源:爱集微

#电科装备#

#中电科#

07-09 11:43

集微网消息,在7月8日举行的北京亦庄创新发布会上,中电科电子装备集团有限公司(以下简称:电科装备)发布了在离子注入机、化学机械抛光设备(CMP)、湿法设备等技术上的突破成果。

图片来源:北京亦庄

离子注入机是集成电路制造前道工序中的关键设备,难度仅次于光刻机。它通过对半导体表面附近区域进行掺杂,引起材料表面成分、结构和性能发生变化。

电科装备战略计划部主任李进透露,目前电科装备已实现离子注入机全谱系产品国产化,可为芯片制造企业提供离子注入机一站式解决方案。

据北京亦庄消息,中国电子科技集团还发布了国产化化学机械抛光设备,作为集成电路制造核心装备之一,化学机械抛光设备是铜互联工艺不可或缺的设备。

其中,200mm抛光设备已经进入到中芯国际、华虹宏力、台积电、联电等国内大线,被中芯国际誉为“唯一置换率100%的国产设备供应商”。

此外,据中新网报道,李进介绍,电科装备8英寸化学机械抛光设备市占率达70%,12英寸CMP进入客户验证,性能表现优异。电科装备湿法设备已进入到8英寸集成电路外延片加工和芯片制造领域。(校对/若冰)

责编: 若冰

小如

作者

微信:18549912477

邮箱:shxy@lunion.com.cn

作者简介

关注本土IC产业动态,聚焦本土产业风向与政策。邮箱:shxy@lunion.com.cn

读了这篇文章的人还读了...