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中微公司首台8英寸CCP刻蚀机PrimoAD-RIE200顺利付运

来源:爱集微

#中微公司#

06-15 18:53

集微网消息,6月15日,中微公司首台 8 英寸甚高频去耦合反应离子(CCP)刻蚀设备 Primo AD-RIE 200 顺利付运客户生产线。

据悉,Primo AD-RIE 200 是中微公司自主研发的新一代 8 英寸甚高频去耦合反应离子(CCP)刻蚀设备。基于已被业界广泛认可的 12 英寸 CCP 刻蚀设备的成熟工艺与特性,Primo AD-RIE 200 在技术创新和生产效率方面都有了进一步提升,能够满足不同客户 8 英寸晶圆的加工需求。

为提高生产效率,Primo AD-RIE 200 刻蚀设备可灵活配置多达三个双反应台反应腔(即六个反应台)。此外,Primo AD-RIE 200 提供了可升级至 12 英寸刻蚀设备系统的灵活解决方案,以满足客户生产线未来可能扩产的需求。

据了解,中微公司Primo nanova®产品已成功进入海内外十余家客户的晶圆生产线,在领先的逻辑芯片、DRAM 和3D NAND厂商的生产线上实现大规模量产。根据公司业绩说明会材料,ICP刻蚀市场规模76亿美元,而CCP刻蚀市场规模仅为48亿美元。

此前,中微公司第100腔Primo nanova®刻蚀设备的顺利交付,是公司ICP刻蚀产品业务发展新的里程碑,标志着刻蚀产品发展迈入新的阶段。(校对/Arden)

责编: wenbiao

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